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桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟

2026-6-3 07:19| 发布者: 大维| 查看: 1

桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟
美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外(EUV)光刻装置,并结合新型三维纳米打印技术,将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟,进一步降低了半导体芯片制造门槛。研究团队表示,除芯片制造外,该技术还有望应用于纳米药物、量子计算和新材料合成等领域。相关研究发表于新一期《纳米快报》。(科技日报)

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